税收优惠政策支持先进制程光刻胶国产化空间大年夜附股

税收优惠政策支持先进制程 光刻胶国产化空间大年夜（附股）

的i线光刻胶已供应海内头部芯片公司，高端KrF光刻胶处于中试阶段。

在高解析度光刻胶、透明光刻胶、CMOS光刻胶等方面正与下游特定客户举行联合研发。

华创证券指出，从中可以看出，税收优惠政策向先进制程倾斜。光刻胶是半导体光刻工艺的核心质料，决定了半导体图形工艺的紧密程度和良率。由于手艺壁垒和客户壁垒高，光刻胶市场被美日公司长期垄断。受益于本土半导体产能连续扩大年夜和集成电路大年夜的支持，跳动财经，国产光刻胶正在迎来亘古未有的成长机会。

其他公司：、。

财务部等四部分公布《关于促进集成电路财产和软件财产高质量成长企业所得税政策的》。国度鼓励的集成电路线宽小于28纳米，且谋划期在15年以上的集成电路生产企业或项目，第一年至第十年免征企业所得税。若线宽小于65纳米，所得税优惠年限为“五免五减半”。

最新通告，自主研发的ArF光刻胶产品近日乐成通过客户使用认证，成为第一只通过产品验证的国产ArF光刻胶。

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